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美国ACM RESEARCH 无应力抛光设备

产品/服务:
品 牌: ACM RESEARCH
有效期至: 长期有效
最后更新: 2023-12-17 21:14
单价:
面议
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公司基本资料信息






  • 详细说明
  • 规格参数
 美国ACM RESEARCH  无应力抛光设备
主要优势
工艺过程低应力
低耗材成本COC和运营成本COO
低排放可保护环境
特性和规格
整合了无应力抛光、化学机械研磨、湿法刻蚀、干法刻蚀工艺
电抛光液和湿法刻蚀液可实时循环使用
减少化学和耗材使用量
设备尺寸(mm):4100(长)*2600(宽)*2650(高)
 

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